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· VHSF系列真空高溫石墨化爐
連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
主要用于 C/C的石墨化燒結處理。復合材料具有優異的綜合性能，特別適于高溫領域，如航空、航天等方面。典型應用為飛機的渦輪 、剎車盤、活塞、機翼前緣、鼻錐等。
選項：
進料方式：1、底裝料
2、上裝料
3、水平進料
加熱原理：
電阻加熱
感應加熱
目前該設備已形成2500℃～3000℃系列化產品，可根據客戶實際需求定制。
