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  • 真空熱處理系列

  • 真空釬焊/擴散焊系列

  • 真空燒結系列

  • 真空高溫高壓系列

  • HIP熱等靜壓系列

  • 不銹鋼管專用熱處理系列

  • 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

  • 真空氫化系列

  • 碳材料特種生產線設備

  • 連續生產線

  • 半導體晶體生長系列

  • VHSF系列真空高溫燒結爐(碳化硅、氮化硅)

    用途:

           主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

    優勢與特點:

           最高 溫度可達到3000℃。

           新型加熱室結構,多溫區獨立控溫,溫度均勻性好,損耗功率小,更節能。

           進口紅外測溫儀,測溫準確,誤差小。

    可選項:

           爐體形式:立式,臥式

           加熱方式:電阻加熱;感應加熱

           冷卻方式:自然冷卻;氣體循環冷卻

           真空泵組:進口;國內優質品牌

           目前該設備已形成系列化產品,不在系列范圍內的可根據客戶要求定制。


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