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  • 真空熱處理系列

  • 真空釬焊/擴散焊系列

  • 真空燒結系列

  • 真空高溫高壓系列

  • HIP熱等靜壓系列

  • 不銹鋼管專用熱處理系列

  • 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

  • 真空氫化系列

  • 碳材料特種生產線設備

  • 連續生產線

  • 半導體晶體生長系列

  • VCDF系列真空化學氣相沉積爐

    用途:

           在高溫并在真空狀態下,通入碳源氣體,在高溫下產生裂解,沉積到工件上,主要用于C/C的化學氣相沉積,使復合材料得到致密化處理。   

    可選項:

           1、底裝料式  

           2、上裝料式


           設備溫區大小可根據客戶實際需求定制。


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