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真空熱處理系列
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· VHSF系列真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅）
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HIP熱等靜壓系列
· HIP熱等靜壓設備
不銹鋼管（高端能源、EP潔凈）專用熱處理系列
· VQG系列大型立式真空高壓固溶時效成套設備（直管、盤管）
· VCHF系列真空連續熱處理設備（直管、盤管）
· EP管專用熱處理套設備（直管）
· VQG系列底裝式高壓固溶設備（盤管、直管）
鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列
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· VDF系列真空除氣爐（石墨膜殼）
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真空氫化系列
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· 真空氫化脫氫一體化設備
碳材料特種生產線設備
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· VMF系列真空電阻炭化爐（馬弗爐）
· VCDF系列真空化學氣相沉積爐
· VHSF系列真空高溫石墨化爐
連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
在高溫并在真空狀態下，通入碳源氣體，在高溫下產生裂解，沉積到工件上，主要用于C/C的化學氣相沉積，使復合材料得到致密化處理。
可選項：
1、底裝料式
2、上裝料式
設備溫區大小可根據客戶實際需求定制。
